Chipfremstilling er kendt som kronjuvelen i moderne industri og er også en high-end industri, som Kina fokuserer på.
Selvom anvendelsesområderne for polyurethanmaterialer hovedsageligt er koncentreret i industrier som bygningsisolering, møbler og apparater, biler, sko og tøj, er der også en skygge af polyurethanmaterialer i spånfremstilling - såsom CMP-poleringspuder.
CMP er udviklet på basis af kemisk polering og mekanisk polering, men overvinder samtidig manglerne ved traditionel mekanisk polering og kemisk polering.
CMP-udstyr omfatter tre hovedmoduler: polering, rengøring og transmission. Under operationen presser polerhovedet overfladen af den skive, der skal poleres, mod den ru polerpude og opnår global planarisering ved hjælp af polering af væskekorrosion, partikelfriktion, polerpudefriktion osv.
Udstyret og forbrugsstofferne, der bruges i CMP-teknologi, omfatter: polermaskine, poleringsslam, polerpude, post-CMP-rengøringsudstyr, poleringsendepunktsdetektion og proceskontroludstyr, affaldsbehandlings- og testudstyr osv.
Polermaskine, poleringsslam og polerpude er de tre nøgleelementer i CMP-processen. Deres ydeevne og gensidige matchning bestemmer niveauet af overfladeglathed, som CMP kan opnå. I poleringsprocessen er de to vigtigste materialer polervæske og polerpude.
CMP-poleringspuder skal have god korrosionsbestandighed, hydrofilicitet og mekaniske egenskaber. De mest almindelige er lavet af stift cellulært polyurethanskum med et mønster af smalle riller med højt billedformat. Polyurethan har god elasticitet og slidstyrke og kan opretholde relativt stabil ydeevne under påvirkning af konstante slibemidler. Samtidig, under poleringsprocessen, kan mikroporerne (mekaniske egenskaber og porøse vandabsorberende egenskaber) på overfladen af den stive opskummede polyurethan polerpude blødgøre og ru overfladen af polerpuden og kan holde slibende partikler i puden. polervæske.
Disse mikroporer kan også opsamle bearbejdningsfjernelsesmaterialer, transportere poleringsvæske og sikre kemisk korrosion, hvilket er gavnligt for at forbedre poleringens ensartethed og poleringseffektivitet.
Populære tags: polyurethan til cmp poleringspude, Kina polyurethan til cmp poleringspude producenter, leverandører, fabrik
